徐申学稍微一看道：“所以说，现在的DUV光刻机的镜片方面问题不大了，甚至还有产能空余，而EUV的镜片产能则是不足是吧。”
曹星辰教授道：“是这样的。”
DUV光刻机能卖出去，要看市场需求！
而EUV光刻机能卖出去多少，则是看产能……现阶段而言能生产多少就能卖出去多少，但是产能太低了，今年才那么二十多套的产能，供应智云微电子一家都嫌少。
智云微电子正在大搞特搞第二代七纳米以及五纳米工艺，而这两个工艺用的都是HEUV-300B光刻机，对这种光刻机的需求量非常大。
至于国内其他厂商，也就中芯那边订购了几台EUV光刻机，尝试进军更先进的十纳米工艺甚至七纳米工艺，而其他厂商的话则是没这胆子搞更先进的七纳米工艺了……
投资太大，技术难度太高，搞不来。
国内的很多半导体制造厂商，其实都还停留在四十五纳米工艺节点，二十八纳米工艺节点里。
现在能够做十四纳米工艺节点的国内半导体工厂，其实也就只有智云微电子、中芯这两家，其他厂商都还不行呢。
其实有几家国内的半导体厂商的硬件设备水平已经很不错了，不少都用上了HDUV-600B这种级别的先进光刻机，这种光刻机本身就是为了做双重曝光而研发的，很适合用来做十四纳米工艺节点的。
甚至只要技术能力牛逼的话，甚至都能和智云微电子一样用这种光刻机做等效七纳米工艺，也就是智云微电子宣传的第一代七纳米工艺。
但是……很多厂商都是用这种先进光刻机用来生产二十八纳米工艺，撑死了也就探索研发二十二纳米工艺而已，距离十四纳米工艺还早着呢。
菜刀再好，厨子本身的厨艺不行也做不了一桌子好菜！
国内的其他半导体厂商，都是做中低端半导体制造为主，有点野心做先进工艺的只有中芯了。
他们和智云微电子的技术差距太大了！
人家智云微电子，都已经量产第二代七纳米工艺，甚至准备着对等效五纳米工艺进行技术验证了。
也展开了对EUV光刻机双重曝光的等效三纳米工艺的技术开发工作。
智云微电子，玩的就是最顶级的工艺技术，和台积电，四星，英特尔这三家正面竞争。
和国内其他半导体厂商区别很大的。
这样的智云微电子，对EUV光
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