从光刻的接触方式，原有的掩膜版和光刻胶的物理接触会摩擦损伤掩膜版的寿命。
灰尘颗粒也会导致生产缺陷，胶膜更是在压力下变形，这些都是限制精度提升的原因，或许可以尝试分离开一段距离，但是不接近.”
周志强将接下来准备研发的项目方向，详细的跟赵成辉他们讲了另一种光刻工艺。
上次他想说来着，不过那时候时间紧任务重，能将硅晶管制造出来已经很不错了，之后还有集成电路要研发制造，所以光刻工艺就没关。
但现在想要制造出专属复合加工数控机床的集成数控系统，就要高性能的集成电路.光刻工艺的提升也是避不可免的。
周志强一边说还一边拉过来一份黑板，一边说一边给技术科内的所有人示意起大致原理。
“改变接触方式？不接触怎么曝光，而且光纤穿过掩膜版的缝隙，光就会发生衍射”
林工开口问道：“这个距离怎么控制，恐怕只有十几微米到几微米之间吧，周厂长，不容易实现吧？”
“是不容易，但不是完全不可能，而且用这种光刻工艺，哪怕精度只有一小部分进度，但却可以在生产效率上大大提升”
也不太需要追求极致到几微米的精度，现在确实实现不了，但只要比之前的精度有提升就行。
他们可以一步一步的提升，但这个光刻工艺可以凭借高精度的机械系统，实现半自动化生产，单单生产效率就能提升几十倍甚至更多。
周志强还有点私心，那就是新研发出来的光刻工艺也用在数控分厂。
以后数控分厂能发展起来厂内自己科研力量和技术储备，就不用一直盯着一九零厂了。
周志强始终觉得掌控在自己手中的才是最好的，要不然他也不至于把数控分厂建的那么大，而且单单是技术科未来三年的规划，就要满四十人。
接下来单单讲新的光刻工艺技术原理，周志强就用了不少时间，主要是技术科内林工和李工等人虽然理解了，但是觉得以现在的条件不太可能做到。
就算做到了，精度提升空间也受限机械系统的精度，难以达到理想的光刻状态。
不如从其他方向突破，这样还有可能达到预期目标。
但周志强还没说话，这个提议便被赵成辉给否定了。
这将近一年的时间，他们不是没往其他方向努力过，但实验了很多次、还和其他研究所进行和合作实验，依旧没能取得有效的成果。
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